或許我也可以提供另一種觀點 不過僅適用工業設計類別。 之前修過專利法 工業設計是隸屬在專利法之下的"新式樣"這樣的類別 (總共有:發明、新型、新式樣 三種，前兩者是技術層面，新式樣是設計層面) 新式樣專利的申請必須滿足三項法律要件，即產業利用性、新穎性、創作性 其中第二點新穎性　在新式樣的規定較為嚴苛 如果是發明專利　或是新型專利的話　因為技術之創新比較不容易模仿 因此新穎性的規定較為寬鬆 然而法律上認定新式樣的模仿較為容易　因此規定如果該作品有公開過 就不能申請專利 然而有沒有公開過的證據呢？　顯然就是照片跟影片了 雖然新一代設計展是由經濟部工業局所指導 也就是說是少數展出後"可能"仍保有申請專利權利之展覽 然而一但被攝影或是錄影　仍然可能在將來的申請專利過程中產生問題 這也就是為什麼設計展應該要禁止攝影的原因 畢竟我想大部分展出的設計品應該都還沒有申請專利　或起碼是在審核階段而已 就這一點來說　我想跟故宮的保存文物　或是博物館的規定理由會有所不同 當然要提醒大家　 其實更可怕的是校內預展　因為不是經濟部主辦的展覽　 只要被拍照　是馬上喪失申請專利的資格的（只要有人提供專利局展出照片<-不肖廠商） 也就是說辛辛苦苦做出來的東西是可以被廠商直接拿去製造而不需付權利金的 因為已經不可能有專利保護了... 嗯　以上只是就法律觀點　簡單說明一下工業設計的部份 至於商業設計或是純藝術　那是商標法　或是智慧財產權法的範疇 這些我比較不懂　希望也有人可以分享囉 :) 那天抓拍照抓得很累 因此也寫了一篇網誌 http://www.wretch.cc/blog/cornertree/18274187 沒想到馬上在這邊看到相關討論 真有趣:P ※ 引述《karlrecon (狗狗)》之銘言： : ※ 引述《Madlez (nothing)》之銘言： : 恕刪 : 我想提供另一個角度來看能不能拍照這件事。 : 當然許多板友已經點出了設計環境、標語濫用等問題，顯示出設計者 : 對自己作品的定位瞭解不一定精準，再者就是沒有考慮到，只是照做 : 板友提到可以拍照的展覽和不能拍的，我認為主要差異除了板權問題 : 之外，就是展館的精神所在，以MOMA來說，所展示的作品已經相當成 : 熟，甚至眾所皆知，這些產品不怕仿冒，需要的是考驗。如果他們能 : 夠輕易的被遊客弄壞，那也告訴設計師或者製造商可以改進的地方。 : 但新一代呢？第一個在於作品是和同學校的展出，多少會有差異性大 : 、完成度高低的問題，但礙於空間.動線規劃無法將適合/不適合拍照 : ，的作品分區放(也可能是沒考慮那麼多)。 : 第二個在於設計師不一定知道自己作品的市場潛力，不知道該如何保 : 護自己的機密。又或者說許多同學都認為新一代是自己出頭天的好機 : 會，於是就大大方方的推廣自己的設計概念，就學生的角色而言兩種 : 做法街無對錯，但我認為推廣不算很高明的作法。 : (適用第此條的產品很少，有的話通常也已經得獎了) : 第三在於作品可能是(連夜趕出的)prototype、外觀模型，在某方面 : 來說設計精神/概念大於設計品味，因此不適合拍照，拍出來無法忠 : 於原味的表現作品，更可能有反效果。 : 以上一點淺見，明天要去看展希望他們已經燒聲喊累了，能停一下.. --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 118.168.3.36