或许我也可以提供另一种观点 不过仅适用工业设计类别。 之前修过专利法 工业设计是隶属在专利法之下的"新式样"这样的类别 (总共有:发明、新型、新式样 三种，前两者是技术层面，新式样是设计层面) 新式样专利的申请必须满足三项法律要件，即产业利用性、新颖性、创作性 其中第二点新颖性　在新式样的规定较为严苛 如果是发明专利　或是新型专利的话　因为技术之创新比较不容易模仿 因此新颖性的规定较为宽松 然而法律上认定新式样的模仿较为容易　因此规定如果该作品有公开过 就不能申请专利 然而有没有公开过的证据呢？　显然就是照片跟影片了 虽然新一代设计展是由经济部工业局所指导 也就是说是少数展出後"可能"仍保有申请专利权利之展览 然而一但被摄影或是录影　仍然可能在将来的申请专利过程中产生问题 这也就是为什麽设计展应该要禁止摄影的原因 毕竟我想大部分展出的设计品应该都还没有申请专利　或起码是在审核阶段而已 就这一点来说　我想跟故宫的保存文物　或是博物馆的规定理由会有所不同 当然要提醒大家　 其实更可怕的是校内预展　因为不是经济部主办的展览　 只要被拍照　是马上丧失申请专利的资格的（只要有人提供专利局展出照片<-不肖厂商） 也就是说辛辛苦苦做出来的东西是可以被厂商直接拿去制造而不需付权利金的 因为已经不可能有专利保护了... 嗯　以上只是就法律观点　简单说明一下工业设计的部份 至於商业设计或是纯艺术　那是商标法　或是智慧财产权法的范畴 这些我比较不懂　希望也有人可以分享罗 :) 那天抓拍照抓得很累 因此也写了一篇网志 http://www.wretch.cc/blog/cornertree/18274187 没想到马上在这边看到相关讨论 真有趣:P ※ 引述《karlrecon (狗狗)》之铭言： : ※ 引述《Madlez (nothing)》之铭言： : 恕删 : 我想提供另一个角度来看能不能拍照这件事。 : 当然许多板友已经点出了设计环境、标语滥用等问题，显示出设计者 : 对自己作品的定位了解不一定精准，再者就是没有考虑到，只是照做 : 板友提到可以拍照的展览和不能拍的，我认为主要差异除了板权问题 : 之外，就是展馆的精神所在，以MOMA来说，所展示的作品已经相当成 : 熟，甚至众所皆知，这些产品不怕仿冒，需要的是考验。如果他们能 : 够轻易的被游客弄坏，那也告诉设计师或者制造商可以改进的地方。 : 但新一代呢？第一个在於作品是和同学校的展出，多少会有差异性大 : 、完成度高低的问题，但碍於空间.动线规划无法将适合/不适合拍照 : ，的作品分区放(也可能是没考虑那麽多)。 : 第二个在於设计师不一定知道自己作品的市场潜力，不知道该如何保 : 护自己的机密。又或者说许多同学都认为新一代是自己出头天的好机 : 会，於是就大大方方的推广自己的设计概念，就学生的角色而言两种 : 做法街无对错，但我认为推广不算很高明的作法。 : (适用第此条的产品很少，有的话通常也已经得奖了) : 第三在於作品可能是(连夜赶出的)prototype、外观模型，在某方面 : 来说设计精神/概念大於设计品味，因此不适合拍照，拍出来无法忠 : 於原味的表现作品，更可能有反效果。 : 以上一点浅见，明天要去看展希望他们已经烧声喊累了，能停一下.. --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 118.168.3.36