作者J781019 (端)
看板Engineer
標題[問題] 光微影製程實驗問題
時間Mon Jan 25 22:57:27 2021
請問這邊有黃光製程工程師嗎
光阻塗布在玻璃基板上
曝光顯影硬烤完
只有在四個角落觀察到清楚的線路
其他地方感覺都被一層霧霧的東西覆蓋住了
試著調整製程都改善不了
請問可能是什麼問題呢？
https://i.imgur.com/9N2qdSG.jpg
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1F：→ wzmildf: 是不是光阻peeling了？ 01/29 01:57
2F：→ wzmildf: 看你右下方整個圖形都不見了，周邊的pattern也都糊掉了 01/29 01:58
3F：推 kurll: defect問題吧 02/04 11:27
4F：→ stargold: 資訊太少了吧...你是用spinner上光阻？膜厚range有沒有 02/09 00:33
5F：→ stargold: 過大？有沒有上HMDS?塗佈及顯影過程中有沒有退潮？玻璃 02/09 00:33
6F：→ stargold: 基板底層反射有沒有考慮？霧霧的有沒有用高倍率下去看是 02/09 00:33
7F：→ stargold: 否有許多細小孔洞？顯影是用手還是超音波震盪？顯影劑濃 02/09 00:33
8F：→ stargold: 度？ 02/09 00:33
9F：→ johnrunroad: 你的mask髒了吧？ 03/12 14:07
10F：推 jonaswang01: 回覆都是老工程師了.... 03/14 22:36