作者J781019 (端)
看板Engineer
标题[问题] 光微影制程实验问题
时间Mon Jan 25 22:57:27 2021
请问这边有黄光制程工程师吗
光阻涂布在玻璃基板上
曝光显影硬烤完
只有在四个角落观察到清楚的线路
其他地方感觉都被一层雾雾的东西覆盖住了
试着调整制程都改善不了
请问可能是什麽问题呢?
https://i.imgur.com/9N2qdSG.jpg
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1F:→ wzmildf: 是不是光阻peeling了? 01/29 01:57
2F:→ wzmildf: 看你右下方整个图形都不见了,周边的pattern也都糊掉了 01/29 01:58
3F:推 kurll: defect问题吧 02/04 11:27
4F:→ stargold: 资讯太少了吧...你是用spinner上光阻?膜厚range有没有 02/09 00:33
5F:→ stargold: 过大?有没有上HMDS?涂布及显影过程中有没有退潮?玻璃 02/09 00:33
6F:→ stargold: 基板底层反射有没有考虑?雾雾的有没有用高倍率下去看是 02/09 00:33
7F:→ stargold: 否有许多细小孔洞?显影是用手还是超音波震荡?显影剂浓 02/09 00:33
8F:→ stargold: 度? 02/09 00:33
9F:→ johnrunroad: 你的mask脏了吧? 03/12 14:07
10F:推 jonaswang01: 回覆都是老工程师了.... 03/14 22:36