作者nikenike (nikenike)
看板Master_D
標題[請益] 濺鍍Al nano-film
時間Sat Apr 26 19:15:54 2008
最近濺鍍 Al 的 nano-film-------> 50nm~10nm
碰到的問題!!!!!
請問對濺鍍機(sputter)很熟的高手
我是使用 RF濺鍍
DC-Bias C-T (C-Tune) C-L(C-Load) 三者之間有什麼關係???
尤其對活性較強的金屬--Al
謝謝!!!
~~~~感恩~~~~~
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◆ From: 218.32.241.162
1F：推 a7776041:我只記得C-T和C-L是為了降低阻抗 濺鍍效率會比較好@@ 04/26 20:36