作者Absolitude (別再睡了起床了愛麗)
看板Physics
標題[問題] 磁控濺鍍範圍
時間Mon Jun 29 04:30:08 2015
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【出處】(習題或問題的出處)
【題目】(題目的文字敘述,如有圖片亦要提供圖片)
http://www.polymedia.ch/OpArticles/view/57
借用一下這篇的圖Fig. 1
我不太清楚這個現象的中文要怎麼說,所以這裡把濺鍍定義成靶材的上的現象而不是要鍍
東西的基板那裡
請問一下為什麼濺鍍的範圍會落在內外磁極中間的區域(下圖藍色區域下方)
【瓶頸】(解題瓶頸或思考脈絡,請盡量詳述以利回答者知道要從何處講解指導)
http://i.imgur.com/I33drqK.png
搞不太清楚濺鍍的詳細機制,磁極附近(紅色區域下方)沒有被濺鍍倒是因為
1. 磁極附近磁場強導致電子在更遠的地方就被反彈了,所以在磁極附近能產生離子的電
子密度低
2. 還是有許多電子分布在磁極附近但是磁場把產生的離子彈開了
3. 其他
如果是原因是1的話要計算不同位置濺鍍的程度可以用那個位置上方的電子密度來估算嗎?
謝謝~
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1F:→ yeahbo: 磁控濺鍍是利用磁場去把電漿分布聚集,藉以提升濺鍍效率 06/30 00:20
2F:→ yeahbo: 電漿會被聚集的原因,是因為靶材有施加負電位會吸引正離子 06/30 00:22
3F:→ yeahbo: 正離子在磁場中運動會受羅倫茲力而轉向,最後就聚集在那圈 06/30 00:23
4F:→ Absolitude: THANK YOU 07/05 02:05