作者gamesame7711 (框框)
看板ChemEng
标题[制程] 制程压力对反射功率之影响?
时间Mon Aug 1 18:29:43 2011
目前正在使用RIE，我是通氢气进行乾蚀刻，但是反射功率过大，误差值约30%
(我只有通20sccm的氢气，压力环境是100mTorr)
请问压力环境、反应气体对反射功率是否会有很大的影响?
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 203.68.164.86
1F：→ IZO:调一下匹配, RF power是自动匹配的吗 08/03 13:26
2F：→ gamesame7711:是 08/03 14:16
3F：→ IZO:自己实验室的机台吗? 没办法自己调就找机台负责人或工程师 08/03 14:26
4F：推 boster:通入Ar会比较好控制反射功率~ 08/10 22:50