作者ggfvkoi (Dennis)
看板ChemEng
标题[材料] 使用物理气相沉积法溅镀一层碳膜~但如何改善批覆性??
时间Mon Aug 8 21:49:22 2011
目前我在做用物理气相沉积法在304不锈钢
沉积一层碳膜!
是用电浆去打碳靶材然後沉积在不锈钢上面~
然後做临场退火去改变碳的结构!!
目的是为了要改善导电性~
目前导电性是有改善了~
但抗腐蚀性没有太大的改善XD
好像跟批覆性有关系~
就是碳跟不锈钢之间抓不牢
疑似是表面粗糙度造成的
所以有考虑用乾蚀刻增加表面粗糙度~
但以前完全没有做到这一块过~
完全没有有关增加粗糙度的参数
不知道有没有人做过类似增加粗糙度的实验?
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 125.233.131.139
1F：推 gamesame7711:SUS粗糙的话 可以先弄一层SiO2 或Ti 在表面试试看 08/09 01:06
2F：→ yen21:可以考虑镀介层 08/09 01:07
3F：→ gamesame7711:或许就可以抓住 不过会多一道制程 08/09 01:07
4F：→ gamesame7711:或者沉积的时候对基版加温试试看 08/09 01:08
5F：推 maayaleaf:sputter沉积GLC温度应该会在400以上~~表面粗糙度跟附着 09/13 12:41
6F：→ maayaleaf:性感觉差异不大~试试高偏压渐降来沉积 09/13 12:42
7F：推 kingforme:沉积在不锈钢应该附着性很差，加中间层附着性会增加。 10/03 21:40