作者SmilePomelo (柚)
看板Chemistry
标题[实验] 铜片Cu镀膜前清洗方式
时间Fri Mar 13 19:26:13 2020
各位好,我是位在做实验的研究生
我想要在铜箔上成长石墨烯
但前制程清洗的部分,除了用酸来吃掉氧化铜以外
我有查到一些Paper是以氢气退火的方式来做
目前实验步骤为丙酮-异丙醇-DI水-N2吹乾-放入炉管
抽真空约到-5
升温(试片尚未进入高温处,在刚放入炉管的地方)
温度到达後通入H2,试片推到退火炉内
退火时间30Min
抽出後我的铜箔颜色有点偏很淡的紫色
想请问这部分该如何进行改进?CuO + H2 -> H2O + Cu(水的部分应该会被烤乾或抽走吧?
取出试片後我还会再进Sputter进行溅镀
溅镀完再退火一次让他析出石墨烯出来
还是我应该在最後这次退火才加入H2?(但我希望再进入溅镀流程时铜箔是乾净的
麻烦各位专家帮我解答一下了,感激不尽
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