作者GOGOGOBANANA (猴子不要来!!!)
看板NEMS
标题[问题] su8乾膜曝光
时间Tue Apr 17 15:13:31 2012
小弟我目前利用SU-8 3100 (PerMX)制作结构
厚度为500um 即100um的乾膜热压五层
现在在黄光的步骤遇到很大的问题
已经做了很长的时间 一直无法突破
希望有经验的前辈能够给予指点
目前遇到最大的问题是
常常底部应该显掉的部份显不掉
如果再继续显影 会发生底部吃掉了 但是结构上半部与边缘已经过显了
於是推测应该是曝光剂量过重
但是如果再减少曝光时间
又会发生曝光剂量过轻
整个结构掉下来
现在最好的参数是
曝光时间5分钟(加滤镜) 曝後烤30分钟
每次显影都要将近1~1.5小时
但是仍然会发生底部显不掉的情形
我已经不知道该调整哪个参数了
麻烦有经验的学长能够给予一些指导
感激不尽!!!
PS 这个材料实验室没有人用过,所以我也只能自己试,无计可施之下才来版上问
希望能够得到一点帮助,谢谢!!!!
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