作者hypercube (10932KM)
看板NEMS
标题[问题] mark 对位
时间Thu Apr 26 13:21:18 2012
大家好，想请教板上的各位先进~
若我在wafer上做了一道黄光後，接着在表层镀上约5um的SiO2，
此时我想要再继续做黄光，且需要和上一道所留下来的mark做对准
可是我想镀上SiO2後原先的patten就应该找不到了吧，不知道要如何做对准!?
目前想到是在镀SiO2前，做背对准将与正面相同的mark复制到背面，
之後再利用背面mark来做第二道的对准，不知道这方法是否可行~
或是有其他更好的方法可以解决，请教各位了，非常感谢~~
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.112.38.83
1F：推 SkyLark2001:我是觉得还是看的到，你可以先是一次看看。 04/26 13:23
2F：→ SkyLark2001:若真的看不到或很不清楚影响到对准，你说的方法可行 04/26 13:24
3F：→ SkyLark2001:你把图案复制到背面後，可以用RIE吃一下约1 micron以 04/26 13:24
4F：→ SkyLark2001:上的深度，这样就看得颇清楚了 04/26 13:24
5F：→ SkyLark2001:另外一个可行的方法是，前面改用厚光阻AZ去做，这样就 04/26 13:25
6F：→ SkyLark2001:会很容易看到图形了 04/26 13:25