作者jianhung ()
看板NEMS
标题[问题] 阶差上pattern S1818
时间Thu Apr 26 18:50:50 2012
大家好，想请教一下
目前我正利用S1818作曝光，涂布厚度约2.5~3um
而我的wafer已在前一道制程经过蚀刻
制作出长宽高 300x35x3.5um 的凸起结构，高度3.5um正是我指的阶差
我的pattern是最小线宽线距4um的连续图案，并且横跨这个阶差
做过无数次之後发现，阶差上的线宽都会比较大(过曝)
好的情况差0.5um(再现性差)，但通常会差到1~1.5um，造成线距过小
目前的想法是因为光阻的流动性，造成阶差上的厚度较小，以至於过曝
不知道有没有人做过类似制程，可以分享一下吗?
感恩
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.116.175.175
※ 编辑: jianhung 来自: 140.116.175.175 (04/26 18:52)