作者Jinuse (积极 努力 )
看板NEMS
标题Re: [问题] 多层s1818光阻
时间Fri May 18 00:52:30 2012
完全同意前面的文章
跟你分享一些作制程的经验
如果可以直接只用厚光阻旋涂一次来取代的话
当然是最好的方法 厚度跟转速会有最可靠的关系
如果不得已要做叠层的话
就要看光阻的特性
经过软烤以後因为溶剂跑掉
光阻的表面特性已经不是原来那个样子
通常会根本涂不上去 或是涂得破破烂烂的
之前因为不得已要涂两层AZ P4620
方法是旋涂 软烤 HMDS 旋涂 软烤
厚度会比较接近理想中的样子
我没用过S1818
不过你可以试看看我的方法
※ 引述《SkyLark2001 ( )》之铭言：
: 我以前做过多层SU-8
: 其实仔细想就知道了
: 只有第一层是光阻转在Si表面，第二三四层都是光阻转在光阻表面
: 两种(PR on Si与 PR on PR)之间的力(摩擦力，附着力，表面张力, whatever)不同，
: 厚度当然不同，而且根据实验经验，"差距很大"。
: S1818转个四层少於4 microns是很合理的。
: 要转厚一点可1. 转慢一点(800rpm), 转的时间短一点(20s-30s)，至多两层
: 2. 直接使用厚光阻 AZ P4620
: 转那麽多层其实是下策
: 老师的话，本身又没做制程的经验，十个有八个嘴炮又自以为
: 身为研究生，说服老师其实是一门大学问。共勉之。
: ※ 引述《jianhung ()》之铭言：
: : 大家好，又来请教一下
: : 最近在测试多层s1818
: : 基板是Si
: : 参数分为2次、3次、4次的涂布
: : 我用的是2000 rpm，软烤90度3分钟
: : 每一次的做法都相同，仅涂一次HMDS在基板上
: : 以先前的经验，1层的厚度约2um
: : 然而我发现光阻厚度不是一次一次垒加上去
: : 经过4次涂布，厚度也不超过4um
: : 老师对这个结果很不以为然
: : 他认为厚度应该会更厚
: : 请问是因为我烘烤的程度不够
: : 还是光阻与光阻之间的附着力本来就不好呢?
: : 谢谢!
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◆ From: 114.33.128.54
1F：推 blueseas:试过两层SU8堆叠，不会有你说的那样子涂布上去或破烂情况 05/18 22:35
2F：→ blueseas:觉得黏度的影响还是比较重 05/18 22:35
3F：→ blueseas:当然材料表面也是有影响啦! 05/18 22:37
4F：→ Jinuse:对呀 SU8跟AZ P4620不一样罗 05/19 01:43
5F：推 jianhung:其实老师也是用过SU8叠到1~2mm才能用来说嘴 05/19 10:53
6F：→ jianhung:那是不是就可以解释成薄膜光阻黏性较低，加上没有HMDS 05/19 10:55
7F：→ jianhung:所以厚度就上不去了 05/19 10:55
8F：→ Jinuse:我是觉得一个是正光阻一个是负光阻 成分不一样不能比啦 05/19 23:13