各问先进大家好 晚辈的目的是制备管路高度不同的微流体通道 在制备多层SU-8当作模板时 有遇到一些问题希望可以参考学长们的经验与建议 主要问题是 涂布上第二层光阻剂後 用第二片mask准备做第二次曝光 在对齐mask上的标记和wafer上第一层的图案时 第一层几乎只看的到类似阴影的形状 无法对焦清楚 在对齐上有困难 该机台是使用10倍物镜 但在其他显微镜看的到第一层的图形 材料是SU-8 2010 步骤 第一层高度是10um 3500rpm 30秒 软烤95度3分钟 曝光8秒 曝光後烤95度4分钟 涂布第二层目标15um 1500rpm 25秒 软烤95度8分钟 曝光10秒 曝光後烤95度10分钟 最後显影 因为第一次接触黄光制成 所以在一些关键字文章搜寻 不是很了解 希望前辈们能指点迷津 谢谢 --

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