作者sway5566 (sway)
看板NEMS
标题[问题] 乾蚀刻 矽与ITO的方法
时间Sat Jul 21 12:49:37 2012
板上的前辈好
最近老师丢给我一个难题> <
说要蚀刻多晶矽(基板)与ITO
可是又说看能不能不要碰黄光
尽量以最简单且最便宜的制程完成实验
所以头真的有点痛...
如果不用黄光上光阻 我只有金属遮罩(蒸镀电极)...
想请问一下如果把金属遮罩放进去让RIE打 遮罩会不会GG啊?
还有想请问如果不用黄光制程 有什麽方法能蚀刻ITO?
P.S. 矽跟ITO的蚀刻都是要做成指叉状 ITO是要当正电极用的
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◆ From: 123.205.154.194
1F：推 pttresident:看你金属遮罩多厚，不过应该也是0.x mm等级的吧？ 07/22 19:08
2F：→ pttresident:相比你要被吃的膜厚…应该是可以撑好几次的RIE 07/22 19:09
3F：推 Colula:金属遮罩不要进RIE,尤其是ICP,不然RFpower很容易mismatch 07/28 01:57
4F：→ Colula:很伤chamber..又有污染的问题，调得不好甚至在里面打雷闪电 07/28 01:58
5F：→ shtsao:可以考虑用奈米压印机或AFM定义图形 价钱比较便宜 11/15 23:50