作者tingyu1027 (tingyu1027)
看板NEMS
标题[问题] 有关E-beam lift off问题~
时间Wed Aug 15 16:59:05 2012
各位好...
最近遇到了一个恼人的问题.
先前用E-beam画, 比如写两条相距1um 的长方形. PMMA 300nm, 镀金~80nm 後
用ACE lift off , 相距的1um都非常完美, lift off 不会有金属.
但最近改如两条斜斜最後交会的长方形...
交会的有角的那部份都会有沾粘, lift 不起来的金属在上面....图形就烂掉了..
有甚麽方法让lift off更强呢?? 还是不是因为这问题, 是E-beam曝光而生的问题??
也试过用NMP 这去lift off, 但还是lift不起来~~
希望大家帮忙了...
Thanks
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