作者black7928 (胖)
看板NEMS
标题[问题] 1um线宽曝光问题
时间Thu Sep 6 16:39:46 2012
小弟最近正在是1um的曝光
可是结果不尽理想
小弟的参数如下
机台的曝光强度12mW/cm2
使用NR71-1500PY的光阻
基板为铌酸锂基板
1.清洗後烘烤90度10min
2.涂布 500rpm 10s 4000rpm 40s
3.软烤 90度 10min
4.曝光16s
5.显影液与水比例3:1 显影时间12s
有一部份因为所设计的较为密集
试了很多种参数都无法完成 用om看都是黏在一块的
想问看看有没有什麽方式能够改善 再麻烦了 谢谢!!
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