作者zx12345 (阿胖)
看板NEMS
标题[问题] 晶圆清洗问题and涂布问题
时间Fri Oct 5 11:42:51 2012
最近跟学长合作在制作元件 晶圆使用4"铌酸锂基板
不过最近在重复尝试的过程中发现晶圆清洗不易
我们是使用ACE 然後IPA 然後DI WATER清洗 之後用氮气枪吹乾然後用显微镜观看
各用10min 60%power的超音波震洗机去做清洗
不过发现同一片晶圆就算直接来回做四次还是无法将晶圆清洗乾净
有尝试过加强power或是加强清洗时间 但是仍然会有污点在晶圆上面
想问问还能不能加入什麽清洗的步骤才能使晶圆更加乾净?
再麻烦大家给一点意见!! 谢谢
另外还有光阻涂布的问题
涂布後会发现有少许气泡 搜寻一些资料大部分是说加热或是放置一段时间则可以
不过效果似乎不是很好 显微镜下看得很清楚 想问问是否还有什麽方式可以解决
谢谢!!
光阻部分应该是nr7-1500py
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 120.107.194.182
1F：推 ckris1945:试试氧电浆? 10/05 11:48
2F：→ zx12345:谢谢提供可是这边没有氧电浆 不知道还有没有什麽其他方式 10/05 13:23
这边实验的机台功能较有限
希望能以一些比较基本的方式解决 再麻烦大家提供一点意见
※ 编辑: zx12345 来自: 27.245.249.254 (10/05 13:45)
3F：推 blueseas:RCA 10/05 16:09