作者ccczxzx (Pen)
看板NEMS
标题[问题] 蚀刻问题
时间Wed Feb 12 00:14:02 2014
各位板上的先进大家好
小弟近日在蚀刻上出了一点问题
想请问各位下一步会如何排除
状况是这样的
小弟使用负光阻涂布在 ITO-glass 後
皆有使用软/硬烤，显影後检查的状况也不错
pattern 间的 gap (50 um) 可以清楚的显现
但在蚀刻 (H2O/HCl 1:1 85度 2 min) 这一步问题就出现了
ITO 还没有蚀刻完我的光阻就开始脱落....
导致最後 pattern 间的 gap 没有蚀刻完全
我在想可能问题出在光阻太薄无法抵抗蚀刻液
所以除了增加光阻厚度外，各位先进还会有什麽建议呢？
例如降低蚀刻速率抑或是增加硬烤或曝光的时间等
谢谢各位先进的帮忙与回答
小弟先在这边谢过了
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◆ From: 180.176.221.168
1F：推 jeffdon2:之前我们是用厂商卖的ITO蚀刻液来蚀刻，温度38度 02/12 08:44
2F：→ jeffdon2:用正光阻S1818 作2um阻挡层就很足够了，150nm的ITO层 02/12 08:45
3F：→ jeffdon2:大约80秒至90秒就蚀刻的很完全了 02/12 08:46