作者h888512 (速球胜负 + 45度角绝杀)
看板Physics
标题[问题] 半导体制程
时间Thu Oct 10 16:56:40 2013
本人不太懂半导体制程，故想问一下
STI填洞时会同时施加高频RF(HF-RF)和低频RF(LF-HF)
低频RF可以用来促进silica膜的平坦度
请问是为什麽?? 跟材料特性有关吗??
或是和特徵频率的吸收有关??(例如增加SiO2的mobility之类的)
感谢!!
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