作者davidzwh (de luxe)
看板Tech_Job
标题Fw: [徵求] 任何有关"黄光制程"问题
时间Thu Aug 14 13:20:12 2014
※ [本文转录自 Wanted 看板 #1Jx1uRhF ]
作者: davidzwh (de luxe) 看板: Wanted
标题: [徵求] 任何有关"黄光制程"问题
时间: Thu Aug 14 10:25:25 2014
小弟有幸与台G黄光权威吴总会面8hr，强力徵求有关"黄光制程"任何疑难杂症
回馈乡民可代为询问 并一一回覆制程的问题，感谢！
(一) 制程概观
参考书籍: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology by Xiao
半导体制程主要分六个module, 分别是: 微影 (lithography) , 蚀刻 (etching) ,
薄膜 (thin film), 扩散 (diffusion), 离子植入 (ion implant),
与 化学机械研磨 (chemical mechanical polishing).
可以将电晶体的制程想成盖房子,首先制作STI (shallow trench isolation)区分
发挥电性的silocon与绝缘的silicon oxide.植入离子产生N/P well.制作poly
gate当做电晶体的开关,接着制作contact,填入金属称为plug,一层层的metal line
盖上去成为电路,每层metal layer间以via连接,最後有passivation layer保护.
习惯上把contact以前称为FEOL (front end of line,前段),contact称为
MEOL (middle end of line,中段),metal开始称为BEOL (Back end of line,
後段).
其中,微影也常被称为黄光,一部分原因是因为光阻中的PAG (photo-induced acid
generator,曝光後产生酸,接着采取连锁反应.)怕白光,所以无尘室内微影区是以黄
光照明.黄光工程师的工作是以光阻曝光产生固定的pattern後,接着利用蚀刻将其
转印在晶圆上(如oxide, poly, metal, via layer, layer前的名字代表将产生半导体内
的哪个单位).也有可能是光阻曝光後, 利用implant将ion植入silicon产生电性
(implant layer,其中包含: well, LDD, S/D, cell, I/O).与photo (黄光)合作关系
最密切的就是etch与implant.
(二) 黄光工作内容
(二-1)
参考书籍:
1. Sub-Half-Micron Lithography for ULSls by K.SUZUKI
2. Fundamental Principles of Optical Lithography: The
Science of Microfabrication by Mack
3. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography
by Y. Wei and R. L. Brainard
4. Optical Lithography: Here is Why by B. J. Lin
5. Microlithography: Science and Technology by K. Suzuki and etl.
在介绍内容之前,要先解释一下光罩的区别.依据制程与layout的差别,我们将光罩分
为Bright field Dark tone如Oxide, poly layer,与Dark field bright tone如
metal, via layer.简单的想法就是,以oxide为例,我们要将大部分的光阻都曝开
才能往下etch制作STI,所以称为bright field.对metal而言,我们是将少部分的光阻
曝开往下etch,接着填入metal,所以称为dark field.了解这个差别,较容易进
一步了解各个layer所需要的pattern与解defect的recipe的调整.
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2F：→ likeair: 我有跟南部某钢铁业董事长出去玩过.... 08/14 10:38
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4F：→ likeair: 错了 是北部某钢铁业的特助带去找南部某钢铁业董事长.. 08/14 10:56
5F：推 odahawk: 原来空叔是北部某钢铁业特助 (笔记) 08/14 10:58
6F：→ likeair: 我是被特助带出去 08/14 11:07
7F：→ JoPaiCho: 3人行.... 08/14 11:08
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8F：推 sandyweill: 可以请吴总内荐吗? 08/14 13:28
9F：→ saladim: EUV 跟 double patterning哪个比较有希望? 08/14 13:36
10F：推 mckinleyivan: 问一下他浸润式显影机的发展与前景 08/18 21:48
11F：→ mckinleyivan: 另外,如何稳定的把IQ focus keep在1-sigma内? 08/18 21:50
12F：→ mckinleyivan: 剩至更低,就是如何降低抓取foucs与曝光所需的时间 08/18 21:53